低溫恒溫水槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門(mén)，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門(mén)，為用戶(hù)工作時(shí)提供一個(gè)熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，對(duì)試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測(cè)試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

　　低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源， 可在機(jī)內(nèi)水槽進(jìn)行恒溫實(shí)驗(yàn)，或通過(guò)軟管與其他設(shè)備相連，作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門(mén)，高等院校，企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門(mén)，為用戶(hù)工作時(shí)提供一個(gè)冷冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，對(duì)試驗(yàn)樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行恒定溫度試驗(yàn)或測(cè)試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

　　低溫恒溫水槽應(yīng)用范圍：

　　對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

　　對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。

　　低溫恒溫槽常見(jiàn)問(wèn)題：

　　1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現(xiàn)在制冷速度好像越來(lái)越慢了，在氣溫越高時(shí)越明顯？

　　答：水循環(huán)使用很簡(jiǎn)單，但是定期的維護(hù)保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實(shí)就是沒(méi)有定期做維護(hù)保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負(fù)載中帶走的熱量都需要從前通風(fēng)罩處的散熱器中排走，如果前通風(fēng)罩上吸滿(mǎn)灰塵和柳棉等就會(huì)妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。低溫恒溫水槽一般來(lái)說(shuō)在正常的使用條件下制冷量下降都是因?yàn)橥L(fēng)散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。

　　2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多，這是什么原因？

　　答：前面提到過(guò)水循環(huán)的日常維護(hù)工作，這個(gè)問(wèn)題也與之有關(guān)。大家都知道，水里面有很少部分的雜質(zhì)，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點(diǎn)雜質(zhì)都沒(méi)有。對(duì)于水循環(huán)而言，一般溫度都設(shè)置在20℃，特別適應(yīng)微生物的生長(zhǎng)和繁衍。時(shí)間長(zhǎng)了以后這些微生物就會(huì)堵塞水路的過(guò)濾器造成回水不暢，水泵就會(huì)有較大的噪音。有時(shí)這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴(yán)格按照說(shuō)明書(shū)中的要求做好日常維護(hù)工作，定時(shí)清洗內(nèi)槽，長(zhǎng)期停用，保持槽內(nèi)干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時(shí)地面一會(huì)兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來(lái)說(shuō)在正常使用的過(guò)程中，水路是不會(huì)有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對(duì)濕度又太大時(shí)，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結(jié)露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔(dān)心是水路中有漏水的地方。如果您對(duì)這很介意的話(huà)，打開(kāi)空調(diào)降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產(chǎn)生。

　　低溫恒溫水槽對(duì)半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：?jiǎn)尉磧艮D(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動(dòng)夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對(duì)激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。